Wachstum und In-situ-Charakterisierung von Oxid-Dünnschichten und Bauelementen
Über
In der Arbeitsgruppe „Wachstum und in-situ-Charakterisierung von Oxid-Dünnschichten und -bauelementen“ erforschen wir neuartige Wachstumsprozesse und in-situ-Charakterisierungen für memristiveSchichten und Bauelemente. Der Schwerpunkt der Gruppe liegt auf dem Verständnis und dem aktiven Engineering von funktionalen Oxiden, einschließlich Defekt-Engineering sowie epitaktischem Design von Oxid-Dünnschichten, Heterostrukturen, Nanoinseln und freistehenden Schichten. Die laufenden Forschungsarbeiten reichen von memristiver Funktionalität für neuromorphes Computing bis hin zu ferroelektrischen, magnetoionischen und Quantenphänomenen in komplexen dünnen Oxidschichten. Das Team unter der Leitung von Prof. Regina Dittmann hat wichtige Infrastrukturen für die In-situ-Analyse dünner Schichten aufgebaut, wie z. B. den Electronic Oxide Cluster, inklusive Röntgenspektroskopie (XPS, NanoESCA) und großflächiger gepulsten Laserdeposition (PLD). Die Gruppe arbeitet außerdem an Synchrotron-Einrichtungen (z. B. ELETTRA, Trieste; MAX IV, Lund) für die mikrospektroskopische Analyse memristiver Bauelemente.
Forschungsthemen
- Oxid-Synthese und In-situ-Analyse (Electronic Oxide Cluster)
- Memristive Oxid-Dünnschichten und Bauelemente für neuromorphes Computing.
- Defect-engineering in dünnen Oxidschichten und Heterostrukturen
- Neuartige Phänomene in dünnen Oxidschichten
- Synchrotron-basierte Spektroskopie und Mikroskopie
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Letzte Änderung: 09.04.2025