HNF installiert neuen Laserdirektschreiber

Der Gerätepark der HNF wurde um einen MLA 150 (MLA: maskless aligner), der Firma Heidelberg Instruments erweitert. Bei der sogenannten maskenlosen Lithografie werden Mikrometer kleine Strukturen mit Hilfe eines Lasers auf ein mit Photolack beschichtetes Substrat geschrieben. Die gewünschten Strukturen müssen zuvor lediglich am PC gezeichnet werden. Durch die sehr kurze Zykluszeit von der Designerstellung bis zum fertig belichteten Substrat ist das System optimal für die Prototypenentwicklung geeignet.

Der 375nm Laser kann Strukturen bis zu einem Mikrometer auflösen und erreicht eine globale Alignment-Genauigkeit von unter 500 nm. Der Fokus des neuen Systems liegt aber vor allem auf der sehr hohen Schreibgeschwindigkeit. So kann eine 100mm x 100mm große Fläche in ca. 35 Minuten und ein vollständiger 4 Zoll Wafer in unter 25 Minuten belichtet werden.

Zudem verfügt die Anlage über ein „Field-Alignment Addon“ was die Alignment Genauigkeit auf Teilbereichen der Probe auf unter 250nm verbessert. Ebenfalls verbaut ist ein sogenanntes „High Aspect Ratio Modul“ welches wahlweise hinzugeschaltet werden kann. Dies verbessert bei dicken Lacken die Steilheit der Lackflanken.